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Technologie Circuits Electronique Imprimée

Le domaine Technologie Circuits - Electronique Imprimée de la plateforme PLATINOM regroupe un ensemble de moyens technologiques pour le développement de procédés de fabrication des Micro et Nanotechnologies (MEMS RF, cavités RF, circuits micro-fluidiques…), de dispositifs de l’optoélectronique organique et de l'électronique imprimée (cellules photovoltaïques, transistors à effet de champ, diodes électroluminescentes, capteurs, etc) et de matériaux innovants oxydés (PCM…). Il rassemble également des outils de caractérisations des matériaux et dispositifs utilisant des techniques morphologiques, optiques, électriques et optoélectroniques.

Il représente un des principaux supports technologiques de projets de recherche du laboratoire et regroupe des chercheurs, enseignants chercheurs, ingénieurs, techniciens et doctorants. Les applications visées correspondent au domaine des microondes, de l’optique et de la biologie.

Le domaine Technologie Circuit – Electronique Imprimée est impliqué dans le réseau national des grandes centrales Technologiques RENATECH. Il est membre de la communauté GSO Tech.

Moyens et équipements Technologie circuits :

Salle Blanche regroupant 400 m² de locaux, dont 120 m² ISO7 et 60 m² ISO5, dédiés au prototypage et la fabrication de composants microélectroniques en privilégiant les substrats céramiques et oxydes.

 
Lithographie UV standard et avancée :
  • Aligneur de masque EVG 610
  • Aligneur de masque Suss Microtec MJB4
  • Lithographie laser KLOE Dilase 650
  • Lamineuse General Cover RSL-382S
  • Tournette résine SPS SPIN 150
  • Générateur Plasma O2
Dépôts couches minces par pulvérisation cathodique DC et RF :
  • Pulvérisation cathodique DC 3’’ PLASSYS MP300
  • Pulvérisation cathodique DC 2’’ et RF 3’’ PLASSYS MP300
  • Pulvérisation cathodique et d’évaporation thermique PLASSYS MEPS300
Dépôts couches minces par évaporation (faisceaux d’électrons) :
  • Evaporation par faisceaux d’électrons PLASSYS MEB300
  • Evaporation par faisceaux d’électrons PLASSYS MEB400
  • Evaporation par faisceaux d’électrons PLASSYS MEB500
Dépôts couches minces par ablation laser :
  • Ensemble bâti sous vide et Laser Compex PRO 110
Procédés Gravures sèches :
  • Bâti de gravure RIE PLASSYS MG200
  • Bâti de gravure par plasma DIENER
Recharges Electrolytiques :
  • Bancs de recharges d’or et de cuivre électrolytiques
  • Banc d’electroless de cuivre
Découpes de wafers et circuits :
  • Scie automatique DISCO DAD 3220
Moyens et équipements Electronique Imprimée :
Objectif : prototypage et caractérisations de dispositifs optoélectroniques de l’électronique imprimée

Procédés voie humide :
  • Dépôts de matériaux hybrides (pérovskites halogénées)

  • Dépôts de matériaux organiques (polymères, molécules)

  • Dépôt de matériaux composites et nano-objets (graphène, nanotubes, nanocristaux, etc)

  • 2 Tournettes, traitement UV-ozone, sorbonnes gravure, plaques chauffantes, etc

 
Impression Jet d’encre et rhéologie :
  • Imprimante DIMATIX DMP-2831

  • Mesure d’angle de contact / viscosimétrie

Procédés voie physique :
  • 4 Evaporateurs (1 creuset, 2 creusets, 4 creusets)

BLOC Boite à Gants dédié matériaux pérovskites :
  • Tournette, plaque chauffante, etc
BLOC Boite à Gants dédié matériaux organiques :
  • Tournette, plaque chauffante, etc
BLOC Boite à Gants dépôts physiques :
  • Boite à gants avec évaporateur par faisceaux d’électrons
  • Boite à gants avec évaporateur par faisceaux d’ions IBAD
  • Boite à gants avec évaporateur thermique
BLOC four CVD :
  • Four CVD VLS
Caractérisations morphologiques et Optiques :
  • Microscope à Force Atomique

  • Profilomètre mécanique DEKTAK XT

  • Goniophotomètre

  • Réflectomètre AGILENT Cary300

  • Fluorimètre Edinburg Instrument (PL et TRPL)

  • Microscope Optique LEICA DM 12000 M

Caractérisations électriques :
  • Conductivité 4 pointes (2 bancs)

  • Banc de test sous pointes

  • Pont d'impédance HP (1Mhz)

  • Pont d'impédance 120Mhz

  • Platine Linkam pour mesures électriques/optiques en température

  • Mesure de conductivité électrique et thermique / coefficient Seebeck (TFA LINSEIS)

Caractérisations optoélectroniques :
  • Simulateurs solaires ORIEL classe A (air)

  • Simulateurs solaires Solarconstant PV275 (atmosphère inerte et air) 

  • Détecteurs certifiés et correction spectrale

  • Banc de mesures de rendements quantiques (EQE / IQE)

  • Caractérisation LBIC (Light beam induce current)

  • Banc de caractérisation dynamique de composants optoélectroniques

  • Caractérisation LED

 

Prestations  :

Technologie Circuits
Electronique Imprimée
Photolithographie UV (avec fourniture de substrats ou non)

Dépôts couches minces par pulvérisation cathodiques

- Métallisations de matériaux non précieux et matériaux isolants (Al, Mo, AlN…)

- Métallisations matériaux Or et Ruthénium


Dépôts couches minces par évaporation

- Métallisations matériaux non précieux (Al, Cu, Ti…)

- Métallisations matériaux Or et Platine


Dépôt couches minces par ablation laser

Recharge électrolytique

- Recharge Or

- Recharge Cuivre


Gravure par plasma RF et micro-ondes de gaz fluorés

Découpes de wafers et circuits plans (silicium, verre, céramiques…)
Procédés par voie humide

- Formulation d’encres, de composites, dispersion de nano-objets (sonde ultra-sons)

- Mesure d'angle de contact, tension de surface, viscosité


- Dépôt à la tournette (3 équipements)

- Banc d’impression par sérigraphie


Dépôts couches minces de matériaux par évaporation

Boites à gants sous atmosphère inerte pour le dépôt par voie humide (organiques et pérovskites)

Boites à gants sous atmosphère inerte pour le dépôt par voie sèche (bâtis d’évaporations)

Caractérisations morphologiques et optiques

Caractérisations optoélectroniques

Caractérisations électriques

Impression jet d’encre

 

Collaborations :

  • Financeurs publics : Région Nouvelle Aquitaine, Ministère de la recherche, Union européenne
  • Institutions publiques : ESA, CNES, DGA, CEA, LAAS, Renatech +, IRCER, …
  • Partenaires privés : Thalès group, Airbus, Airmems, …
  • Tutelles : Université de Limoges, Université de Poitiers, CNRS