La silice, soumise à un faisceau d'électrons d'énergie de l'ordre de quelques dizaines de keV, subit des modifications topographiques et indicielles permettant d'envisager la réalisation de micro composants optiques, sans avoir recours à des étapes de masquage ou d'attaque chimique. L'outil d'irradiation utilisé est un microscope électronique à balayage associé à des logiciels de pilotage du faisceau. Dans le but, à terme, de réaliser un filtre optique à bande-passante très étroite constitué d'une cavité résonnante inscrite directement par faisceau d'électrons sur la gaine polie d'une fibre optique monomode en silice, nous consacrons ce mémoire à la caractérisation métrologique et optique des ces variations. Des trous, des disques, des « lignes » et des surfaces ont été élaborés à l'aide d'un faisceau focalisé ou défocalisé. Cette étude expérimentale a permis d'apporter plusieurs éléments de réponse concernant les phénomènes mis en jeu lors des interactions électrons-silice. La caractérisation par les méthodes de Brewster et des m-lines de surfaces de quelques mm2 a montré la faisabilité de guides et de microguides. La méthode WKBI a conduit à la reconstruction du profil d'indice. L'ensemble de ces caractérisations a conduit à une première ébauche du composant final.